关于一个新型超低功耗运放的几个疑问

tangyaoyun · 发表于 3 天前

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这篇ISSCC介绍如何控制衬底漏电，用的是180nm和22nm工艺，如图，用一个运放将P井电位和衬底电位拉平，问题是我没见过5端口器件，请问大家有了解的吗？
昨天我把论文看完了，感觉有几个疑问大家一起来讨论讨论。1，这篇文章里的运放功耗极低，只有几十nW，我很好奇论文里除了三级运放外还用了两个负反馈运放，这两个运放要稳定电压照理说增益不能太低，难道不消耗功耗？2. 论文中提到这个三级运放是用在物联网传感器里的，我很好奇到低是什么应用需要这么低的功耗，脑机接口？

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