关于工艺问题

Wzx_imos

一个简单的问题作为引子：我突然在思考，在工艺中N+区域和P+区域的参杂浓度一定是一致的吗？工艺文件中又没提到（说明）两者的掺杂浓度        对于我们这些不太懂代工厂工艺的人，如果想知道一个代工厂制作出这些工艺层次的作用，以及这个层次做出了的位置和浓度，我该如何去了解呢？ 因为我拿到了PDK里面的工艺文件，但是我并不清楚工艺层次的位置和浓度啊？ [size=0.83em]下载.png (105.55 KB, 下载次数: 0) 下载附件  [url=]保存到相册[/url] [color=rgb(153, 153, 153) !important]25 秒前 上传       如上图所示，我在工艺文件中只能找到这些工艺层次的名字和简单的介绍，我怎么知道这些工艺层次的掺杂浓度，以及这些工艺层次做在什么样的深度呢？比如说DHVNW和DNWELL,这个两个层次，哪一个掺杂浓度高一些呢，哪一个层次的深度更加深一些呢？       有没有大佬能告诉我应该怎么在PDK里面查找这些信息啊？或者说推荐一些可以了解这些东西的信息源（比如说书本或者别的什么），我不知道的这些，可能对于了解硅工艺的大佬可能只是常识，还望大佬指教。

eebbgao

不光东部，其他家一般也不会给很详细的浓度出来吧，结合阱的耐压和器件剖面图，可以大概分析出浓度梯度，没研究那么仔细

xiaowanzi88

你去餐厅吃饭，厨师会告诉你秘制酱料配方吗？

sheep_of_shape

xiaowanzi88 发表于 2023-12-13 18:08
你去餐厅吃饭，厨师会告诉你秘制酱料配方吗？

非常有道理！！

Wzx_imos

eebbgao 发表于 2023-12-12 17:41
不光东部，其他家一般也不会给很详细的浓度出来吧，结合阱的耐压和器件剖面图，可以大概分析出浓度梯度，没 ...

谢谢