在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 630|回复: 0

[资料] Case of Photo mask defects induced wafer lithography defect

[复制链接]
发表于 2023-11-29 17:16:10 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
CD defects of 100nm pattern space (corresponds to 25nm) of photomask induced wafer lithography defects.

Pattern defects of Photo Mask cause wafer litho defect.jpg
Wafer Fabs of 65nm technology or below must pay the effective investment to protect their expensive and presice tool-photo mask for high production yields.
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-12-30 08:46 , Processed in 0.015103 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表