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[讨论] 最近遇到gate端加dummy的版图,请大家探讨一下。

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发表于 2023-11-14 15:57:34 | 显示全部楼层 |阅读模式

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希望大家一起讨论一下,gate端加dummy 的作用。中间是匹配的管子,栅极的端口,加了dummy,并且距离匹配的有效active比较远。请问这个dummy 的作用是什么?

dummy问题

dummy问题
发表于 2023-11-14 17:43:09 | 显示全部楼层
器件周围环境尽量一样哇。做不到完全一样,就尽量一样总比没有好。
 楼主| 发表于 2023-11-15 09:26:35 | 显示全部楼层


vettle 发表于 2023-11-14 17:43
器件周围环境尽量一样哇。做不到完全一样,就尽量一样总比没有好。


有道理,虽然不能完全匹配,确实有些作用。
发表于 2023-11-17 11:04:42 | 显示全部楼层
etch
 楼主| 发表于 2023-11-19 14:13:42 | 显示全部楼层


Is that distance still useful
发表于 2023-11-22 09:54:35 | 显示全部楼层
没啥用。
类似cascode结构一般是在匹配要求不高的情况下才会采用这种画法,主要是为了节省面积,两边加dummy有点画蛇添足了。
如果是为了更好的匹配,主体结构就不应该用这种画法。
发表于 2023-11-22 17:38:09 | 显示全部楼层
我也认为在W方向加dummy没什么作用,W是由OD决定的,而不是poly.
发表于 2023-11-23 17:20:16 | 显示全部楼层
阱边缘效应了解一下,充一下面积,让阱边缘远离沟道
 楼主| 发表于 2023-11-24 09:46:04 | 显示全部楼层


yyl19981204 发表于 2023-11-23 17:20
阱边缘效应了解一下,充一下面积,让阱边缘远离沟道


这个wpe效应,和加不加Dummy mos管没什么多大关联把。完全可以把阱的距离拉开就可以了。
发表于 2023-11-24 10:28:34 | 显示全部楼层
高精度也是需要加的,W方向不加,边缘器件的OD 的W值是比中间的会小一点,这里加似乎是为了OD一致性更高,L方向不加,是因为poly的影响是一致的,
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