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[求助] OD 和 DOD

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发表于 2023-4-4 09:57:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在项目收尾阶段DRC 检查有OD density 不足的问题,我加dummy OD 会有限制,不允许放在CHIP的四个角上,所以我直接用OD 加PPLUS做成10 * 10的小方块在空白区域加了一片,请问大佬们这么做有没有问题,按我的想法是就是芯片一个区域有一片悬空未接电平的有源区,相当于就是挖了几个坑在那儿没用而已,对芯片没有啥影响。

DRC CHECK也是通过的。
发表于 2023-4-4 10:28:35 | 显示全部楼层
借楼问问“不允许放在CHIP的四个角上”,是指sealring的四角要做成45°吗
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 楼主| 发表于 2023-4-4 10:32:29 | 显示全部楼层


   
591954064 发表于 2023-4-4 10:28
借楼问问“不允许放在CHIP的四个角上”,是指sealring的四角要做成45°吗


我都是用的厂商给的sealring,有斜角的也有直角的。
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发表于 2023-4-4 14:35:14 | 显示全部楼层
你说的空白区域是sub?如果是的话,你最好把这些 od 接到sub电位,否则这些都是soft connect;其实sub区域可以做连通的od加pplus,不是一定要10*10的
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发表于 2023-4-4 16:05:27 | 显示全部楼层
同意四楼说的,有源区不要电位浮空,附近接入就可以,前提没有什么特殊要求。
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 楼主| 发表于 2023-4-6 09:11:07 | 显示全部楼层


   
powerboy711 发表于 2023-4-4 14:35
你说的空白区域是sub?如果是的话,你最好把这些 od 接到sub电位,否则这些都是soft connect;其实sub区域 ...


你好,感谢你的回复,我现在还有个疑问请教一下,就是如果我不接就保持浮空,Soft Connect,后续会有哪些风险呢。
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发表于 2023-4-6 11:01:10 | 显示全部楼层


   
David.Z 发表于 2023-4-6 09:11
你好,感谢你的回复,我现在还有个疑问请教一下,就是如果我不接就保持浮空,Soft Connect,后续会有哪些 ...


floating p上如果有高压电源线通过,会导致反型,恰好p周围有相邻两个nwell,导致有穿通风险。2,soft connect 可能导致衬底局部不时最低电位,存在lup风险,当然这些都只是有可能,而为了避免这种麻烦最好都接最低电位。
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发表于 2023-4-6 11:03:38 | 显示全部楼层
请教OD和DOD指的啥?
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 楼主| 发表于 2023-4-6 11:20:49 | 显示全部楼层


   
xxelement 发表于 2023-4-6 11:03
请教OD和DOD指的啥?


OD 是有源区active area   DOD 就是dummy OD
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 楼主| 发表于 2023-4-6 11:23:45 | 显示全部楼层


   
powerboy711 发表于 2023-4-6 11:01
floating p上如果有高压电源线通过,会导致反型,恰好p周围有相邻两个nwell,导致有穿通风险。2,soft co ...


好的,谢谢了
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