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[求助] abstract提取antenna lef

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发表于 2023-3-13 14:49:12 | 显示全部楼层 |阅读模式

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1.  提取标准单元的lef,进行到Extract提取antenna这一步时,没有勾选‘‘Extract signal nets’’和’’Extract signal nets’’这两个选项,而是勾选了‘‘use different layer assignment for antenna calculation only'',里面我添加了栅极的定义:PO PO
                                           有源区的定义:OD OD andnot PO
                                           接触孔的定义:CO CO
但是这样提取天线效应会报警告:
A short has been deteced between nets A2 and A1 during antenna calculation .This indicates a problem in the design unless the nets are conected by a polysilicon resistor.The short is ignored for antenna calculation but is considered for the signal net extraction because either the "Use different layer assignments for antenna calculations only" option is selected or the extraction depth has been limited.
我想请教一下,是我哪里设置错了

A2 和A1是单元的输入端口的名称
2.   还有一个问题:在Extract这步,General设置时,我设置的是
(PO M1 CO)(OD M1 CO)
但也会报警告:Layer('OD') could not be included in the antenna calculation because their fabrication mask number are not specified in the technology database.To include these layers in the intenna calculation,update the technology database and reload the library.

这些警告会影响到最终天线效应面积  ANTENNAGATEAREA的数值大小么?
谢谢大佬告知!
 楼主| 发表于 2023-3-13 14:55:38 | 显示全部楼层
在天线计算过程中,网络 A2 和 A1 之间已检测到短路。这表明设计存在问题,除非网络通过多晶硅电阻连接。短线在天线计算中被忽略,但在信号网提取中被考虑,因为选择了“仅使用不同的层分配进行天线计算”选项或提取深度已受到限制
 楼主| 发表于 2023-3-13 14:56:28 | 显示全部楼层
Layer('OD') 不能包括在天线计算中,因为它们的制造掩模编号未在技术数据库中指定。要在 intenna 计算中包含这些层,请更新技术数据库并重新加载库。
发表于 2023-6-2 11:51:13 | 显示全部楼层
PO PO and OD;    OD andnot PO;     
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