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[原创] 关于MOS管匹配性问题!

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发表于 2022-10-31 13:08:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

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为什么NMOS管的匹配性要比PMOS管的匹配性高?哪位大牛可以指导下?
发表于 2022-11-1 09:37:36 | 显示全部楼层
这是个好问题啊,坐等大神
发表于 2022-11-1 10:01:42 | 显示全部楼层
顶顶
发表于 2023-1-4 11:06:06 | 显示全部楼层
以我现在的知识:因为NMOS成本较低,而且依靠电子导电,效果要比PMOS好,所以现在大部分都是牺牲PMOS来优化NMOS的。

点评

感觉你说的是对的  发表于 2024-4-30 14:14
发表于 2023-1-11 16:20:44 | 显示全部楼层
顶一个
发表于 2023-1-12 09:14:48 | 显示全部楼层
顶顶顶
发表于 2023-2-6 15:19:57 | 显示全部楼层
是不是因为pmos的载流子是空穴,导电能力比电子弱,相同的电流其面积要大很多,从而导致他的匹配性不如nmos.
发表于 2023-2-8 17:15:40 | 显示全部楼层
顶,求有讲解的大佬
发表于 2023-12-6 21:45:19 | 显示全部楼层
1.与NMOS管驱动能力相同的一个PMOS管,其器件面积可能是NMOS管的2~3倍,然而器件面积会影响导通电阻、输入输出电容,而这些相关的参数容易导致电路的延迟。
同样,在相同的尺寸条件下,PMOS管沟道导通电阻比NMOS要大一些,这样开关导通损耗相应也会比NMOS管要大一些。
2.一般而言,电子迁移速率是空穴迁移速率的五到十倍,根据材料和结构以及其本身特性的不同,这个倍数甚至会更高。
因为电子比空穴的迁移率要高,所以同体积大小与同掺杂的情况下,NMOS管的损耗要比PMOS管小很多。
3.当NMOS的Vgs电压高频率变化时,形成的导电沟道的厚薄也会跟着发生变化。
这个导电沟道的变化是通过电子的移动来形成的,电子移动速度越快(换言之电子迁移率越高),那么导电沟道就能更快地响应Vgs的变化,其中的缘由涉及到NMOS管的工作原理。
这就说明,电子迁移率越高,器件的工作频率越高。
同样的,PMOS管也一样。

 楼主| 发表于 2023-12-8 15:06:39 | 显示全部楼层


蒋赵威 发表于 2023-12-6 21:45
1.与NMOS管驱动能力相同的一个PMOS管,其器件面积可能是NMOS管的2~3倍,然而器件面积会影响导通电阻、输入 ...


感谢大佬!!!
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