1. 先确定 ripple 是 start up 产生? 还是 基准源本身compensation fail 2. 多少工艺? 真的要到Na 电流?? 你确定 能流片吗?? 以前在 5v0.5um process < 0.5ua 下current mirror 存在风险的, HV 若40v 2ua 会仿真可 流片会失败的 3. 建议滤除纹波 => rc filter 另外 start up 有跑all corner + monte carlo ? 可能start up 有些会 低温 失败 yield loss ..spice model 看不出问题
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