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查看: 2412|回复: 5

[求助] TSMC为什么要做两种金属dummy,有什么区别?

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发表于 2022-1-14 14:20:08 | 显示全部楼层 |阅读模式

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现在在做TSMC 7nm工艺,发现design rule里有两种金属dummy,design rule里对这两种dummy的描述很浅显,只是说一种需要通过OPC光学邻近效应校正,一种不需要,但是这两种dummy在实际生产中有什么区别或者是不同的作用没有讲,请大神指导一下,下图是design rule对这两种dummy的描述 image.png
发表于 2022-1-16 20:30:24 | 显示全部楼层
直接问tsmc吧
 楼主| 发表于 2022-1-17 10:11:19 | 显示全部楼层


这个好直接,可是我去哪问?哈哈哈哈
发表于 2022-1-17 11:41:26 | 显示全部楼层
本帖最后由 gongzhe1231 于 2022-1-17 11:43 编辑

OPC修正是是否对dummy metal进行修正呗
 楼主| 发表于 2022-1-18 11:45:04 | 显示全部楼层


gongzhe1231 发表于 2022-1-17 11:41
OPC修正是是否对dummy metal进行修正呗


可两种dummy都是自动插的啊,还修正什么?如果是工艺问题,插入的metal dummy需要修正,那干嘛不都插入可以进行metal修正的OPCdummy?
发表于 2022-1-19 09:53:22 | 显示全部楼层


prince之风 发表于 2022-1-18 11:45
可两种dummy都是自动插的啊,还修正什么?如果是工艺问题,插入的metal dummy需要修正,那干嘛不都插入可 ...


我的理解是两种dummu对工艺的作用一样,opc dummy的插入可能对opc修正的算法产生影响,插与不插最后形成的修正光罩图形不一样
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