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[原创] ESD电路结构简易剖析

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发表于 2021-6-9 17:54:15 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 Murphy_001 于 2021-6-11 13:58 编辑

把GGNMOS ESD知识融合一下,供自己参考,也给大家分享一下;
1. fab厂提供的ESD结构如下:
image.png
2. 4种不同外来pulse信号进来时的泄电路径,分两种condition进行说明:
a.当对电源有一个正的pulse或者对地负的pulse信号时,直接通过GDPMOS或者GGNMOS的drain端的diode正向导通泄掉;
b.当对电源有一个负的pulse或者对地有一个正的pulse信号时,情况就会略微复杂,这里会加一些跟器件相关的知识进去;
image.png
1>这里会在PMOS的drain端积累负电荷,NMOS的drain端积累正电荷,当电荷累积到一定程度的时候diode反向击穿(这里的diode一定要时齐纳diode,可以可逆操作);
2>mos管本身寄生的一个bipolar,当Isx电流够大,Rsub上的电压降大于Vbe开启电压时bipolar就会导通(这里和latch up开启的理论类似,只不过latch up是两个寄生的NMOS和PMOS相连接,而这里是单个mos管内的寄生bipolar),提升了ESD的泄电能力;
3>gate端和source端连接一个电阻,加上自己一些的想法写在这里;
以GGNMOS为例,正向pulse过来时,在drain端会累积正电荷,同时这个正电荷会加载到寄生的Cgd上,电容两端的电荷不能突变,所以gate端的电压会被抬起来;但是后面又会通过电阻泄掉,这个正向电压也促使mos channel开启,帮助了pulse电荷通过channel泄掉;电阻的阻值与电容的乘积为电容充放电时间常数,所以理论计算的话R是越大越好,但实际上达到某个值之后再增加其实对电路就不会有太大改变了;
image.png
附加:
这里是一个ESD管的TLP curve,trigger电压主要是受diode反向击穿的电压值决定,所以如果在使用过程中觉得trigger电压太大,可以去额外加一道ESD的IMP改善diode PN结,从而减小trigger电压;
另外hold电压主要寄生bipolar导通影响,这个电压值一般需要大于VDD的1.1倍;

image.png





发表于 2021-6-10 13:32:13 | 显示全部楼层
写的挺好的,还不够深入,加油
 楼主| 发表于 2021-6-10 13:51:16 | 显示全部楼层


laundry 发表于 2021-6-10 13:32
写的挺好的,还不够深入,加油


求补充
发表于 2021-6-10 19:24:09 | 显示全部楼层
学习学习
发表于 2021-6-10 19:35:08 | 显示全部楼层
学习
发表于 2021-6-28 19:30:52 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2021-7-3 10:54:50 | 显示全部楼层
图里PAD和R2之间是不是少了个电容。
通过击穿来实现漏电工作,通常会造成晶体管热损坏吧?
 楼主| 发表于 2021-7-13 10:00:39 | 显示全部楼层


protecter 发表于 2021-7-3 10:54
图里PAD和R2之间是不是少了个电容。
通过击穿来实现漏电工作,通常会造成晶体管热损坏吧? ...


不是热击穿,是齐纳击穿,可恢复的
发表于 2021-7-16 14:27:18 | 显示全部楼层


Murphy_001 发表于 2021-7-13 10:00
不是热击穿,是齐纳击穿,可恢复的


确定是齐纳击穿而不是雪崩击穿?
发表于 2021-7-21 15:51:25 | 显示全部楼层
能不能详细讲一下二级ESD保护的原理?主要是它电压是怎么钳位的
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