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7nm工艺与其他工艺在APR阶段不同的地方
a.7nm会有TCIC的一些类似even site/even row 的DRC的rule需要满足。 b.standard cell 的delay小,到ps量级。 c.PG flowpin 在M0层。 d.standard cell可以横向或者竖向摆放,但poly方向相同。 e.double pattern layer M0-M3,4层。 还有什么不同的地方希望大加给个补充~谢谢!
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