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查看: 5466|回复: 5

[原创] 关于PT里的SI分析

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发表于 2018-10-21 17:39:35 | 显示全部楼层 |阅读模式

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各位同仁,     小弟想请教如下问题:
     foundry的sign_off建议里没有si(信号完整性分析的要求),那么在130nm的某工艺下,是否必须得进行si分析呢?
     另外,若进行si分析,是不是要求foundry提供的.lib文件支持才行还是说需要其他的要求呢?因为我在PT里使能了si_enbable,时序一下恶化了很多,但是我觉得130nm工艺下,si不可能影响这么多吧?
    在线等,急急急~~~
发表于 2018-10-22 11:50:16 | 显示全部楼层
回复 1# xiaowang8900

130nm SI分析应该不是强制要求,如果能满足SI下的timing,芯片更可靠。
SI只和Spef是否还有coupling cap,以及STA工具是否使能SI有关,与库无关。
 楼主| 发表于 2018-10-22 12:20:08 | 显示全部楼层
回复 2# helanshan_icer


    Lib 里面是不是得有噪声相关的信息啊?比如说得用CCS
库而不是NLDM库?
发表于 2019-10-23 16:18:31 | 显示全部楼层


xiaowang8900 发表于 2018-10-22 12:20
回复 2# helanshan_icer


楼主知道了吗,我想问一下是不是只有像ccs库里才包含si,noise信息,base liberty库没有噪声信息?pt在利用liberty库分析时的si是哪来的,是否可靠?
发表于 2019-10-24 14:48:04 | 显示全部楼层
130nm分析si,个人觉得必要性不大,90nm以下算明显了。
你130的,可能就用NLDM够了。不放心的话,可以make_cdb,对stdcell整个噪声库来用,因为90的lib库里不一定有ccs或者ecsm。 PT的SI比较悲观,所以你可以卡pr的tool的SI分析,glitch没有,delay方面可以over margin一下。
发表于 2023-11-20 17:12:43 | 显示全部楼层


axxqql 发表于 2019-10-24 14:48
130nm分析si,个人觉得必要性不大,90nm以下算明显了。
你130的,可能就用NLDM够了。不放心的话,可以make_ ...


你好,我刚开始学,现在用的180nm工艺,工艺库只有一种,分不清是NLDM还是ECSM还是CCS,不知道怎么辨别。工艺库也没提供.cdb文件,不知道您说的make_cdb是怎么操作的,能否给于解答。
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