谢谢详细的解答,不过我想再确认一下,所有的考虑还是集中在Power Mosfet?如果控制电路和Power Mosfet是分开的,那么控制电路的工艺选择高压的cmos更加节约成本,可以这样理解吗?
=> 如果你前端控制是说MCU 那类都低压, 一般会MCM , mcu die + driver chip + MOS . 如果你前端是说 控制 LDMOS , 前端一般 都 cmos + level shift .
如 UHV 500~800v , 一般 800V LDMOS 就当 level shift 空制 hi-side .
高压 level shift 以前看过PAPER 用"电容去藕合" . 但校果真如何不知. 说到 电容去藕合 digital isolator IC 记得 TSMC 曾开发过取代光偶PC817 高压电容, silicon Lab 有 digital isolator IC .
有些不想用PC817 或是控制 隔离 会改 "digital isolator IC"
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