Double Patterning 有哪些有点？

severdesigner

如题，在制作某些mask的时候，会采用Double Patterning 技术，请问这样做的好处是什么？

Snowy2016

同一层layer分成两张mask，一般小制程会这么用，这样会使mask的制作成本翻倍。分成两张，可以提高分辨率，特别是图像密集的区域。我个人理解，希望对你有帮助。

powerboy711

二楼解释的很好，其实主要就是芯片不够平坦，以相邻的两条MET1举例来说，它们不是同一平面，结果导致对焦的时候对准其中一个，另一个就出现虚边，所以MET1的间距就不能太小，这样对于小制程来说无法接受，所以就产生了Double Patterning ，相邻的图形分别对焦。

jianqiang189

double pattern 可以参考这篇博文：
https://www.cnblogs.com/xiaoxie2014/p/11543777.html

ericp

jianqiang189 发表于 2019-9-25 15:07
double pattern 可以参考这篇博文：
https://www.cnblogs.com/xiaoxie2014/p/11543777.html

谢谢，解释的很清楚

andyfan

光刻机光源193nm已经很多年了，缝隙小于波长太多的时候，就会发生干涉衍射现象。

开始解决的办法是采用immersion，也就是通过液体折射，增加分辨率。再后面就可是采用2块光罩的办法，比如28nm的时候，poly为了解决end to end不好做的问题，就增加了poly cut的mask。
再往下，更多的层次采用加mask的方式，double pattern就是其中之一，把一次曝光改为两次。利用了，光刻对准的误差很小，但互相干涉影响的pitch相对要大的原理。

最终一句话，就是现有设备工艺做不下去了，工程师们想出来的折中办法。