csmc 0.5um工艺里面的p plug层是什么作用？

zhujihan · 发表于 2016-6-21 18:50:46

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各位，我有个问题要请教，csmc的0.5工艺，有两个option，一个是with p plug另一个是without p plug。mask层数一样，前者增加一层p plug photo layer。我查了很久没找到p plug是什么意思，这个差异在哪里？
两套pdk我比较过，只有design rule有一点点区别，with plug的，active area overlap contact的距离最小是0.15，without plug的，是0.3

athome1 · 发表于 2016-6-21 20:42:05

active area overlap contact =0.15um =>need contact implant to avoid leakage

zhujihan · 发表于 2016-6-21 21:40:14

回复 2# athome1

所以，contact implant叫plug ? p plug?

zhujihan · 发表于 2016-6-21 21:40:31

回复 2# athome1

所以，contact implant叫plug ? p plug?

zhujihan · 发表于 2016-6-21 21:40:41

回复 2# athome1

所以，contact implant叫plug ? p plug?

chenxy3418 · 发表于 2016-9-12 14:47:46

回复 1# zhujihan

仔细研究了上华的工艺，孔注入有两种
1. Contact N+ 普注， Conact P+ with mask 注入。此时 N+/P+ active overlap contact:0.15/0.3.
2. Contact N+ 普注, No contact P+ 注入，此时 N+/P+ active overlap contact:0.3/0.3.

ricvadim · 发表于 2020-3-13 00:30:47

话题很好非常感谢

qiaoligang · 发表于 2020-5-14 15:47:47

学习了，很棒！！！最近正好在用这个工艺，终于找到正解了，赞！！！

Desingman · 发表于 2020-7-6 22:04:39

话题很好非常感谢

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