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[求助] 集成电路布图保护

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发表于 2016-1-23 11:51:18 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请问集成电路布图保护具体该怎么写,有模板吗?分层图样是每一层mask层在整体版图中的截图吗?还是分模块的版图也需要截出来,如果是每一层mask层在整体版图中的截图是不是会看不清楚?求大神分享模板。。。。。。。。
发表于 2016-1-24 16:30:24 | 显示全部楼层
么看明白你的意思
发表于 2016-1-25 14:46:30 | 显示全部楼层
有标准模板,找帮你申请专利的公司要。
 楼主| 发表于 2016-1-26 10:08:05 | 显示全部楼层
回复 3# tuohong

这个是我们自己写,没有找代理公司,请问有模板吗?
发表于 2016-1-26 12:29:08 | 显示全部楼层
这个都是自己写,代理公司是从他们的专业角度跟专利局沟通的。
 楼主| 发表于 2016-1-26 12:39:24 | 显示全部楼层
回复 5# tuohong

这个我知道,就是不知道要按照什么格式写,专利局是要求提供图样,我是想问图样中的截图是什么图,是在TOP上显示每一mask层次的截图,还是分模块的截图
发表于 2016-1-26 14:02:39 | 显示全部楼层
回复 6# sunny_yangfeng


   我得到的信息是在TOP上显示每一mask层次的截图,这个图分辨率不够,所以我个人觉得不总要。   不过我接触过不同的代理公司,他们的要求不尽相同,毕竟我们要提供的不仅仅是知识产权局上面的那张申请表,建议还是找代理,这样在通过率、通过时间等等方面比较靠谱。
发表于 2016-1-26 14:26:45 | 显示全部楼层
感觉布图保护的意义不大啊,是不是来骗科研经费的哦


回复 5# tuohong
发表于 2016-1-26 14:51:45 | 显示全部楼层
说到经费,目前有园区有政策确实能给报一部分,所以申请费用用不了多少钱。
具体上确实还是有意义,国内这几年昂宝和炬泉都是靠布图登记打赢官司的,但是这种赢意义不大,对方基本就是拖。
另外在申请高新企业等等方面也是有价值的,虽然不高,略逊于实用新型;此外对年终奖避税方面也是有益处的。
上海整体上政策比较正规,这些方面大家还是能做就做,基本不占用时间,没有坏处。
发表于 2021-8-17 11:29:17 | 显示全部楼层
谢谢分享
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