设为首页收藏本站
在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)

手机号码，快捷登录

手机号码，快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
创芯云服务  : 创芯大讲堂  | 创芯人才网 | 数字IC职业培训  EETOP诚邀线上IC培训讲师!
搜帖子
EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › Analog/RF IC 设计 › Analog/RF IC 设计讨论 › smic 55nm CMOS LL工艺中的native nmos 是否需要额外的m ...
返回列表 发新帖
查看: 2295|回复: 3

[求助] smic 55nm CMOS LL工艺中的native nmos 是否需要额外的mask??

[复制链接]
zhujihan
发表于 2015-6-29 18:48:57 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册，结交更多好友，享用更多功能，让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看，没有账号？注册

x
如题，需要吗？
回复

举报

zhujihan
 楼主| 发表于 2015-6-29 18:50:05 | 显示全部楼层
看design rule哪里可以看出来？？
回复 支持 反对

举报

bananawolf
发表于 2015-6-29 22:25:39 | 显示全部楼层
应该不用额外的mask
有个device 的truth table，介绍每种device所需要的层次
回复 支持 反对

举报

semico_ljj
发表于 2015-6-30 09:54:02 | 显示全部楼层
有些工艺需要
回复 支持 反对

举报

返回列表 发新帖
高级模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-12-22 19:56 , Processed in 0.016012 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表