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本帖最后由 月神军 于 2015-5-24 16:24 编辑
毕设作死的接了个模拟仿真的题目,AlGaNGaN HEMT器件势垒层的结构和掺杂研究,,现在还没搞定。。。GaN_HFET_dc这个例子自带的说明里有这么一句:
The simulated device structure includes a 2um GaN bulk layer, capped by a 25 nm Al x Ga 1–x N barrier, with x=0.3 ,defined by the Sentaurus Workbench variable.
然后swb显示有个变量x初始值是0.3:
commands里定义是:
; Molefraction definition
(define x_AlGaN @x@)
调用部分应该是这个:
; --------------------------------------------------------------------------------
; Place AlGaN mole fraction
; --------------------------------------------------------------------------------
(sdedr:define-constant-profile "CP.xMole" "xMoleFraction" x_AlGaN)
(sdedr:define-constant-profile-material "CP.xMole" "CP.xMole" "AlGaN" 0 0 "Replace")
我现在需要修改这个x的值,可是修改完以后(哪怕仍然是0.3这个数),运行就会出错,出错原因是define-constant-profile-material的值类型不对:
SCHEME COMMAND 28
*** Error
sdedr:define-constant-profile-material: wrong argument type integer (expected string or symbol)
这个,,为什么原来的就能进行模拟,改个数就不行了?应该是我还没搞明白commands的编写规则,不过去哪学也不知道。。。
希望哪位大神能帮忙解决下这个问题,,或者推荐个学习资料啥的,,不胜感激,,
附上commands和output的截图
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