在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 2152|回复: 1

[求助] 较宽的金属层次刻蚀问题

[复制链接]
发表于 2015-1-19 11:28:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
某些0.6的工艺会存在这样一个版图设计规则同一层金属,如果金属宽度小于10um,那么金属之间的最小间距为0.8um
                如果金属宽度大于10um,那么金属之间的最小间距为1.5um
然而某些0.6的工艺就不会存在这样一个版图设计规则


个人认为无论金属宽度为多少,其面对的光刻条件(光刻胶厚度,曝光时间、刻蚀时间)都是一样的,金属刻蚀是刻蚀氧化层,个人认为与负载效应关系不大,因此请教各位大神,这是由于什么问题导致的?
发表于 2015-2-10 09:49:12 | 显示全部楼层
金属比较软,大块金属做CMP时会不平坦。间距大一点会改善CMP。
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-5 20:35 , Processed in 0.017736 second(s), 9 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表