关于匹配设计的疑问

wingofray · 发表于 2014-5-8 10:23:21

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本帖最后由 wingofray 于 2014-5-14 06:20 编辑

要求layout cross和layout parallel的器件，版图这样画可以吗？

匹配的器件，源漏能不能共用？如果有的能共用，有的不能共用，是不是应该全部不共用？

gaojun927 · 发表于 2014-5-9 09:50:56

这完全依赖于这个匹配要做多好。
匹配误差其实来源很多，面积不足引入的，工艺梯度引入的，周边环境不一致引入的等等。版图所做的主要是后两项，但是前一项有多大比重，后两项有多大比重，不同工艺有所不同。
事实上很多时候design和layout都是随感觉说一下行或者不行，真正行不行没有定量是不可能给出答案的。
举个例子，ABBA，共质心，感觉比ABAB好，但是在距离很近情况下共质心对梯度的消除作用很小，而ABAB在一般情况下周围环境的一致性反而更好，那实际中用哪种呢？我们以前就犯过类似的经验错误。