【求助】sentaurus仿真报错~~~

yogaaa

用sentaurus process模拟工艺流程做器件，在做栅上面的接触时报错error:invalid face是什么意思。。。下面是部分代码
mask name=mask_CONTACT segments = {$y61 $y62 $y63 $y64 $y65 $y66 $y67 $y68}
etch material = {Oxide} type=anisotropic thickness=1.1 mask=mask_CONTACT

oxide是上一步淀积的层间介质，上一步没有问题。
$y61到$y68是源极和栅极的掩膜版坐标，我把栅极的掩膜版去掉之后就没错了。为什么源极可以刻蚀掉ILD，栅极就不行呢。望大神解答！不胜感激！