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EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › Analog Layout（版图） › Layout资料区 › BiCmos Flow Cross(制造工艺流程剖面图）
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楼主: liblueice

[原创] BiCmos Flow Cross(制造工艺流程剖面图）

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hanfeng009
发表于 2012-11-2 16:28:32 | 显示全部楼层
感谢LZ~~~受教啦
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tcwyfrex
发表于 2012-11-11 18:47:37 | 显示全部楼层
感谢感谢！~~！
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njupt0804
发表于 2012-12-7 18:56:09 | 显示全部楼层
谢谢楼至 我刚好要用
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daijijia
发表于 2012-12-20 16:03:13 | 显示全部楼层
回复 1# liblueice
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eegopher
发表于 2012-12-29 02:35:50 | 显示全部楼层
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simonlayout
发表于 2012-12-29 10:30:11 | 显示全部楼层
好东西 ，下下来 研究一下了
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scion
发表于 2013-1-12 17:24:49 | 显示全部楼层
很生動易了解的資料 , 謝謝 !
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dazhi3824
发表于 2013-1-16 01:33:34 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享，看了明白多啦
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zlh95222
发表于 2013-1-25 22:57:34 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享
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JackyShie
发表于 2013-6-5 14:58:54 | 显示全部楼层
好東西,有0.18BICOMS會更好. 另外怎麼沒有EPI LAYER??
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