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[资料] CMOS BASELINE PROCESS

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发表于 2012-4-29 00:00:29 | 显示全部楼层 |阅读模式

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UC BERKELEY MICROFABRICATION LABORATORY
关于CMOS Process的资料

baselinerptI.pdf

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baselinerptII.pdf

3.64 MB, 下载次数: 12 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

baselinerptIII.pdf

2.34 MB, 下载次数: 13 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

baselinerptIV.pdf

2.64 MB, 下载次数: 10 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

 楼主| 发表于 2012-4-29 00:11:57 | 显示全部楼层
如果想了解版图设计对应的详细工艺流程,这几份材料是很值得看的,出自加州伯克利分校。
发表于 2012-4-29 11:03:14 | 显示全部楼层
回复 2# Partic


    什么内容,详细介绍一下。
发表于 2012-4-29 11:11:11 | 显示全部楼层
老古董了
 楼主| 发表于 2012-4-30 17:08:56 | 显示全部楼层
补充如下:

Mask Making in the Nanolab.pdf

57.52 KB, 下载次数: 1 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

Low stress silicon carbide processing at the U.C.Berkeley Microlab.pdf

88.88 KB, 下载次数: 1 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

ITO.pdf

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