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[求助] SMIC CMOS工艺的几个参数???

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发表于 2012-3-27 04:35:08 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 jiankefeng 于 2012-3-27 04:38 编辑

在看一篇学位论文,关于CMOS LNA的设计,论文使用了几个参数,不知是哪里来的,自己查看了几份官方文档,都没发现,请问大家“这些参数的值,在哪里可以找到?”

MOS管参数:
单位栅氧化层电容(gate oxide capacitance per unit area):Cox=9mF/(m^2);
体效应参数(body effect parameter):r=3;
×××(one measure of the departure from the long-channel regime):a=0.5;
NMOS载流子有效迁移率(NMOS charge- carrier effective mobility):un= 3.4*10^(-2) (m^2)/(VS);
SMIC0.18um RFCMOS工艺提供的NMOS晶体管的宽度最小为:60um。

使用元件参数(这能精确到小数点后几位的数是怎么取到的啊?):
(如,原文:“工艺库可选择的实际可行的电感值并不是连续的,在计算时,首先选定Lg2为16.301nH,然后计算Lg1和Cg1的值” - 为计算不定方程组)
Lg2=16.301nH;
C3=C4=0.62pF;
L3=10.55nH。
发表于 2012-3-27 11:58:23 | 显示全部楼层
同问,同学习
发表于 2012-3-27 12:36:19 | 显示全部楼层
同问,同学习
发表于 2012-3-27 13:33:05 | 显示全部楼层
在MOS model中可以找到MOS管的参数,有些参数可以计算出来!
 楼主| 发表于 2012-3-28 10:43:26 | 显示全部楼层
可是我查了很多官方的文档,都没发现如“单位栅氧化层电容”,或是“工艺提供的NMOS晶体管的宽度最小”这些参数值。继续等待,望大家帮忙。。。谢谢!
 楼主| 发表于 2012-4-4 01:26:36 | 显示全部楼层
再顶一次 再顶一次
 楼主| 发表于 2012-4-11 10:47:05 | 显示全部楼层
Doesn't anyone have an idea or any comments?
发表于 2013-4-3 18:44:32 | 显示全部楼层
楼主,我也是做低噪声的,我也想知道怎么去找工艺参数
发表于 2013-7-21 16:20:56 | 显示全部楼层
同问同问
发表于 2016-5-24 10:50:50 | 显示全部楼层
学习学习
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