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[求助] RFID中使用Flash的厂家

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发表于 2012-3-5 13:31:34 | 显示全部楼层 |阅读模式

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为什么国内厂家只有同方微电子出的RFID使用大容量Flash,华虹复旦的都是EEPROM
同方很牛么?
同方spec如下
1.JPG
发表于 2012-3-5 15:56:21 | 显示全部楼层
不光与Flash的容量有关,还有Flash的功耗相关、Flash的页面大小等等
发表于 2012-3-7 00:51:20 | 显示全部楼层
Flash的功耗有多大?
 楼主| 发表于 2012-3-7 09:06:54 | 显示全部楼层
回复 3# amodaman


    各个厂家都没有给数据,假如是NOR型eflash,一个page 128byte,应该在50uA的级别
 楼主| 发表于 2012-3-7 09:10:41 | 显示全部楼层
回复 2# outnut


    你可了解为何只有同方用Flash,其他的都用E2,业内除了英飞凌的solid-flash,即使NXP也只用E2
    从国内研发水平说,同方应该是这几家里比较弱的才对
发表于 2012-3-7 09:12:03 | 显示全部楼层
是擦写的功率吗? 不会是读的功率吧? 而且eFlash不需要高压的,不知道这些电流花在哪里了。
发表于 2012-3-7 09:49:38 | 显示全部楼层
通常用eeprom不用eflash的原因主要有:
1. 传统上eeprom的擦写次数比eFlash的多,比如eeprom bit cell擦写次数现在通常宣称到100万次甚至是500万次,而常见的eFlash的擦写次数在10万次到50万次;
2. eeprom的擦写是利用FN-tunel效应,所需电流很小,电路中的电流主要耗在漏电流上;eFlash在program时要用到Hot carrier效应,有电流负载,所以charge pump的功耗比较大,(楼上说eFlash擦写不需要高压是不对的,只是和eeprom所需的高压不一样而已)。
3. 容量比较小时用eFlash面积上并不见得有优势。

但是现在技术的发展,特别是eFlash的技术发展很快,eFlash的bit cell也有好几种,它的性能也在不断的提高中,以后高端智能卡用大容量eFlash可能也是趋势之一。

楼主还可以了解下同方是在哪里流片,用的是谁家的eFlash工艺,再直接去看这家厂商eFlash的性能指标。
 楼主| 发表于 2012-3-7 17:01:56 | 显示全部楼层
回复 7# 过路心客

同方貌似是用华虹0.13um流片的,但是具体参数和ip spec都无法得到,看了同方产品
1 国内只有同方一家使用Flash
2 同方芯片的spec跟英飞凌非常相似
发表于 2012-3-7 17:06:11 | 显示全部楼层
Foundry有很多家在推eFlash的工艺的,为什么都没推出去呢?奇怪。
发表于 2012-3-7 17:22:36 | 显示全部楼层
回复 8# txdycmdr

HHNEC 0.13um eFlash 是 license 别人家的,哪家我给忘了,但我记得是SONOS工艺,这种工艺下的擦写功耗也是比较小的(没有用到hot carrier)。据说面积也很小,HHNEC 大力在推这个工艺,看上去有竞争力,详细情况还欠了解。
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