在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 3861|回复: 3

[求助] 请问CMOS工艺的门速度和VDD电压的关系

[复制链接]
发表于 2011-9-21 17:16:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
请问CMOS工艺的门速度和VDD电压的关系,
一般适当提高VDD电压,可以提高CMOS的门速度,
但有没有人知道为什么?
我感觉这样子的话,门电平的反转时间(转换时间)变长了,
比如1.2V的提高到1.4V,那就是到1.4V才能稳定。

又和结论矛盾。。。
发表于 2011-9-27 14:33:39 | 显示全部楼层
I_V curve can explain it!
发表于 2012-7-23 23:57:54 | 显示全部楼层
回复 1# rubinsma
定性的看的话...I-Vgs体现出电流和电压的关系是平方关系...而门速度的快慢取决于电流对负载电容的充放电,充放电过程可以看成是指数关系的...所以电压增高有利于提高速度...
发表于 2012-7-30 15:07:38 | 显示全部楼层
恩。主要跟V-I曲线有关。。
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-4-27 18:28 , Processed in 0.021124 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表