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[讨论] LDO 的相关论文中为何不提及工艺角分析?

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发表于 2011-4-7 11:38:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

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近期看了些LDO的IEEE论文,很迷惑的是几乎没有看到关于LDO在各工艺角下的性能分析的参数。从理论上说,随着工艺尺寸和电源电压的减小,PVT对LDO的影响也应该很大的。可是为什么大家都没有表现自己的工艺鲁棒性呢?
发表于 2011-4-7 12:40:56 | 显示全部楼层
是不是因为低频电路对PVT相对不敏感
 楼主| 发表于 2011-4-7 13:37:30 | 显示全部楼层
焦急等待中。。。
发表于 2011-4-7 14:06:57 | 显示全部楼层
加了PVT,这文章还怎么发??
发表于 2011-4-7 15:49:37 | 显示全部楼层
应该是需要考虑的,但是论文就是论文不是产品,侧重点而已,你可以写一篇关于这个的论文哈
发表于 2011-4-7 18:09:28 | 显示全部楼层
应该考虑,可能还有一个原因是PVT的变化及不上Iload的变化吧
 楼主| 发表于 2011-4-7 18:27:58 | 显示全部楼层
的确,负载瞬态响应(表征LDO的Iload的变化对LDO的输出电压的影响)本身就是LDO的设计的指标。然而,我觉得PVT考查的对象和负载瞬态响应的考查对象不同。PVT在任何情况下都会影响LDO的输出(包括Iload没有变化的情况下)。
发表于 2011-4-7 21:47:52 | 显示全部楼层
你看的啥论文啊??不对哦  一般好点的论文都会有点的
侧重点不一样而已
发表于 2011-4-10 21:00:27 | 显示全部楼层
看你的工艺什么样的!这个不好说,没有共性!每个工艺conner都不一样!
发表于 2011-4-11 15:23:42 | 显示全部楼层
回复 4# goodsilicon


   大大滴正解
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