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楼主: semi_fxchen

[原创] 有谁知道CMOS工艺角中sf corner的具体含义吗?

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发表于 2010-9-11 23:59:19 | 显示全部楼层
这个我也想问问 fast 和 slow 之间的区别,主要是因为迁移率Un不同吗?
有没有高手转么解释下 fast 和 slow 之间主要是与设计有关的参数有大的变化了?
谢谢~~
发表于 2010-9-13 18:06:24 | 显示全部楼层
去看model文件的corner section定义,一般可以直接看到哪些参数不同。
再根据bsimmodel的说明搞清楚这些参数影响什么,就ok了。
一般model文件目录有一个pdf说明文件,里面也谁说哪些参数不同。

is,vth,tox,u0,cj... 很多变化的
发表于 2010-9-14 08:48:25 | 显示全部楼层
我用的工艺就是p在前n在后
发表于 2010-9-14 09:03:13 | 显示全部楼层
发表于 2010-9-14 19:17:40 | 显示全部楼层
一般都是N在上,P在下吧。
发表于 2010-9-18 17:52:42 | 显示全部楼层
学习了,以前倒是没有注意这些细节方面的东西
发表于 2011-6-9 11:23:08 | 显示全部楼层
发表于 2011-8-15 16:16:39 | 显示全部楼层
自己查看工艺文件吧
发表于 2011-8-15 19:16:04 | 显示全部楼层
工艺厂商生产时的偏差,可以归结到阈值电压的偏差。快的工艺角的阈值电压低,这样MOS的驱动能力也就跟着变快了。
发表于 2011-12-23 15:05:27 | 显示全部楼层
学习了~~
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