該研究團隊的技術利用了氣相傳導爐(vapor transport furnace),激化矽從晶圓片的表面遷移,留下1~2個原子厚度的石墨烯薄膜;雖然過去也有人嚐試過以矽昇華方法來製造石墨烯,但EOC是第一個利用該製程生產出4吋晶圓片的團隊。
贊助上述研究的美國海軍水面作戰中心(Naval Surface WarfareCenter),正與EOC研究人員合作開發超高頻RF電晶體;EOC材料科學家JoshuaRobinson已經利用石墨烯製作出該元件的初期原型,接下來研究團隊的目標是製造速度比矽電晶體快一百倍的石墨烯電晶體。
EOC還有另一個研究團隊則正試圖改善非昇華技術,以製作出8吋石墨烯晶圓片,也就是目前大多數矽晶圓廠設備所支援的標準尺寸。
(參考原文:Graphene wafers ready to fab carbon chips,by R. Colin Johnson)