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提供原子级沉积、选择性刻蚀、无损伤清洗、平坦化、离子注入服务

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发表于 2025-2-10 13:35:19 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我司十五年原子级半导体技术服务经验,英国伯明翰大学技术团队。

   提供:





1. 无损伤清洗



        我们的无损伤清洗技术采用原子级团簇束流,能够在8寸晶圆上去除晶圆制造过程中的纳米级颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物等杂质。



2. 选择性刻蚀



     该服务实现了对不同材料的选择性刻蚀,可对不同材料微结构进行精细化处理,实现无掩模图像化。




3. 原子级平坦化



      我们的原子级平坦化技术能够将材料表面处理至原子级别的平坦度,Ra<0.5nm,平整度高,为后续工艺提供理想的基底。



4.超浅层离子注入



      超浅层离子注入服务可实现亚5nm超浅层离子注入,分辨率可达0.6nm,能精准控制注入深度、浓度和分布。该技术对于提升半导体器件的性能至关重要,能够有效改善电气特性,满足现代集成电路对高性能和高密度的需求。




5.原子级沉积



      原子级沉积能帮助您精确操纵原子,最薄可沉积单原子的超薄膜。该技术能达到极好的三维保形性,能获得高平整性、附着性,还适用于不同形状的基底。   
   资历
   国内知名原子级半导体技术服务公司,与世界500强半导体技术公司和中科院等有过合作,专业可靠,可发多案例供选择。

   欢迎咨询。微信号:2416363409  电话 18924592675

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