匹配器件摆放方向一致。

zhaohaoyang

为什么3：匹配器件摆放方向一致。

PSE( Poly Space Effect)效应。

多晶硅的间距对器件的性能会产生影响。在多晶硅的刻蚀过程中，由于多晶硅密度不一致，在多晶硅较少的区域会流入更多的刻蚀剂，其刻蚀速度就会加快，因此边缘处侧壁的刻蚀就更严重，这种刻蚀效应会使得距离远的多晶硅比紧密放置的图形的宽度要小，从而导致多晶硅宽度的失配。