关于先进工艺AR层

lurenjie123

AR:fin cutl layer SDB
在原版图时候没用到这一层，但是填充dummy时，这层填充了dummy（ARDUM），然后导致密度高于要求的10%。可以直接删去这一层么。

luwang

不确定你是哪个工艺，这个是cut fin的层次。出现在core管区，IO管的区或者覆盖了IO管识别的层次，也不会自动添加这个dummy，但是IO区之间的这些没有覆盖的区域也会加上，前段工艺的这些dummy是组合出现的，删掉不建议，超了的情况可能是你有大面积的空白区域，填decap，或者补上衬底。很奇快的是这个密度除非是大面积，不然很难超的，是在是必须空着，那就覆盖IO的识别层，也能规避

lurenjie123

luwang 发表于 2023-12-12 13:41
不确定你是哪个工艺，这个是cut fin的层次。出现在core管区，IO管的区或者覆盖了IO管识别的层次，也不会自 ...

感谢回复。我做的是TESTKEY结构，不是常规电路所以留白比较多。