EUV光刻工艺还是否还需要cworst_ccworst的rc？

87283810

直观理解ccworst只有double pattern才有，euv理论是一张mask，还需要ccworst吗？

pandaroy

EUV 也有double pattern的吧

菜鸟一号

看foundry的生产流程，和光刻机没关系

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pandaroy 发表于 2023-11-24 09:24
EUV 也有double pattern的吧

如果euv是单张mask的是不是就不需要了呢？

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菜鸟一号 发表于 2023-11-24 09:27
看foundry的生产流程，和光刻机没关系

但是我理解很多情况下foundry用euv都是把double pattern换掉

andyfan

第一，只是部分用EUV，不是全部光罩；所以依然存在


第二，部分层DUV是用四张光罩，EUV是2张，依然double，还是需要。

87283810

andyfan 发表于 2023-11-24 10:12
第一，只是部分用EUV，不是全部光罩；所以依然存在

谢谢，明白了；所以还是取决于foundry工艺，也就是说在EUV工艺中，double pattern依然存在哈

菜鸟一号

87283810 发表于 2023-11-24 09:34
但是我理解很多情况下foundry用euv都是把double pattern换掉

使用EUV是为了达到更加窄的分辨率，在良率有保证的情况下，肯定继续用Double  pattern啊，为什么要用EUV去做DUV都能做到的工艺呢。