请教一下TSV工艺流程

tencome · 发表于 2023-9-19 08:24:05

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请教大神们2个小问题。

网上找的TSV工艺流程有点迷糊。

1. RIE of SiO2是干法还是湿法？还是2种工艺都可以做？

2. 第5步到第6步，PR在前面第4步已经曝光1次了，第6步PR还可以连续进行第2次曝光？

canhecangwu · 发表于 2023-9-19 09:05:59

1. RIE，反应离子刻蚀，属于干法刻蚀工艺，湿法刻蚀工艺易钻蚀，难以控制图形、线宽。
2. 通常一次涂胶不会做两次曝光显影。所以，5-6步中的流程应该是，第五步做完图形转移后，去胶然后做第6步重新涂胶、曝光、显影。

因为两步工艺流程基本一样，可能在理解上容易造成误会。

icshooter · 发表于 2023-9-19 09:08:10

兄弟，RIE肯定是干法了，5和6显然是两张mask两次涂胶显影。

canhecangwu · 发表于 2023-9-19 09:12:02

canhecangwu 发表于 2023-9-19 09:05
1. RIE，反应离子刻蚀，属于干法刻蚀工艺，湿法刻蚀工艺易钻蚀，难以控制图形、线宽。
2. 通常一次涂胶不会 ...

补充一下，如果一定要涂一次胶，做两次曝光显影，理论上也是有可能的，比如图中涂布的如果是正性光刻胶，图示区域在曝光后改性，显影后分解。假设光刻胶未被曝光部分在第一次显影后并未改性，那么那些未曝光区域还是可以继续进行下一次曝光显影的。

tencome · 发表于 2023-9-19 09:44:51

canhecangwu 发表于 2023-9-19 09:12
补充一下，如果一定要涂一次胶，做两次曝光显影，理论上也是有可能的，比如图中涂布的如果是正性光刻胶， ...

请教一下大佬，一次胶，做两次曝光显影，业内有公司这样做过么？

PN_Allen · 发表于 2023-9-19 09:48:30

canhecangwu 发表于 2023-9-19 09:12
补充一下，如果一定要涂一次胶，做两次曝光显影，理论上也是有可能的，比如图中涂布的如果是正性光刻胶， ...

高手呀~ 可以问下这种方法有工程应用吗

canhecangwu · 发表于 2023-9-19 11:51:04

tencome 发表于 2023-9-19 09:44
请教一下大佬，一次胶，做两次曝光显影，业内有公司这样做过么？

一般不会这么做的，容易出问题。不过也难保有人真这么做，并且成功过

tencome · 发表于 2023-9-19 13:42:43

canhecangwu 发表于 2023-9-19 11:51
一般不会这么做的，容易出问题。不过也难保有人真这么做，并且成功过

谢谢！

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