光刻掩模板的主要成本是产生于在掩膜上刻制设计图案吗？

Omax · 发表于 2022-3-9 10:19:27

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掩膜占据光刻工艺中的很大一部分成本，随着特征尺寸的缩小，本人认为掩膜的上设计的面积也在缩小，和设计密度也随着增加，光刻特征尺寸越小掩膜的成本应该越高。想具体了解一下光刻工艺中掩膜板制作中成本的分布，如相同特征尺寸下的相同工艺中掩膜制作是只与设计版图的总面积有关吗（对于用户应该就是买面积，和自己设计中怎么画没关系）？

zddfly · 发表于 2022-4-7 08:59:49

同蹲

yuhaimei123 · 发表于 2022-5-9 11:46:02

差不多是这样，因为掩膜制作是采用电子束，对于面积越大，图形越精细，需要的时间越长

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