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[求助] 版图设计BUTTED问题

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发表于 2021-11-22 20:40:08 | 显示全部楼层 |阅读模式

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求问,在有些工艺中MOS管的衬底接源极时有源层是共用的,只需要一端打孔,衬底不需要单独的有源层引出,这样连接有什么好处呢,对管子精度有影响吗?
发表于 2021-11-23 08:56:39 | 显示全部楼层
确实,有的工艺在调用pdk中MOS管时,衬底会提供不同的选项: butted(integrated)/detached/none(无),具体选择哪一种取决于你的应用需要:
1.如果你的电路应用衬底B和S是需要连在一起,此时Vbs=0,选择butted(integrated)或detached都是可以的,并不会对MOS的参数(如Vth)有什么影响,倾向于选择butted(integrated)的原因是版图面积可以更小,选择detached或是因为后续可能会对电路进行改版(此时只需要动metal即可,无需动器件层),或出于MOS之间的匹配考虑。
2.如果你的电路Vbs不等于0,源衬寄生二极管反偏的情况,当然只能选detached,此时由于衬偏效应(体效应)MOS管Vth会变大,即需要更大的Vgs电压才能使MOS导通。
3.通常情况,如果电路应用中一堆MOS需要匹配,那就先选none,调够MOS后在最外圈统一加一圈衬底,此时实际上属于detached。

以上。
 楼主| 发表于 2021-11-23 13:44:52 | 显示全部楼层


cxchust 发表于 2021-11-23 08:56
确实,有的工艺在调用pdk中MOS管时,衬底会提供不同的选项: butted(integrated)/detached/none(无),具体 ...


懂了懂了!感谢老铁分享
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