在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1925|回复: 1

[求助] 小工艺阱偏效应

[复制链接]
发表于 2019-11-27 20:50:36 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
本帖最后由 LXS13225665126 于 2019-11-28 19:03 编辑

大佬们,tsmc22、28、40nm,dummy的有源区留到多少u才比较好,就是边缘到有效mos的距离留多少合适。上下和左右的距离预留是一样的吗。

发表于 2020-2-6 17:40:18 | 显示全部楼层
你问的是WPE吧?阱包关键器件MOS栅要求大于2um(28、40nm),即可忽略
实际看电路需求,是否对WPE敏感
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-29 11:38 , Processed in 0.013932 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表