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[求助] 华润上华的工艺PIMP和NIMP层次需要光刻吗?

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发表于 2018-1-25 15:53:07 | 显示全部楼层 |阅读模式

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华润上华的工艺PIMP和NIMP层次需要光刻吗?其它工艺的这两个层次呢?
发表于 2018-1-25 16:57:34 | 显示全部楼层
这两个难道不是DEVICE source/drain 的注入吗? 需要先光刻然后做注入。
发表于 2018-1-26 09:42:26 | 显示全部楼层
同意樓上的說法 大部分用到的 layer 先光刻做成 mask
再用 注入 或是 蝕刻 來做
发表于 2018-1-27 12:44:07 | 显示全部楼层
所有出mask 的layer都需要做litho
发表于 2018-4-5 20:40:38 | 显示全部楼层
需要做mask,光刻
发表于 2018-4-10 14:30:14 | 显示全部楼层
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