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[求助] 如果含有top-2层的IP,其上top和top-1层不能加dummy, 这可怎么办?

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发表于 2011-8-1 14:39:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

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这个design中, 含有5个IP(只有top-2层metal),最后阶段需要加dummy metal, 但是IP vendor不建议在其IP上加dummy,我让他们自己加, 他们说不加,因为一旦加上,就不算proven IP, NND!

因此, top 和 top-1两层 metal density不达要求, 这可怎么办? 请有相关经历的大大给些建议。
发表于 2011-8-1 15:11:38 | 显示全部楼层
你的metal density是怎么查的?按照box区域呢,还是all chip?
如果all chip的话,那就在别处找补,如果box的话,那就没法了
要求IP上不加,就不加呗,也是对IP的性能的保护约束。
发表于 2011-8-1 21:43:25 | 显示全部楼层
对, 90nm以上都是整体密度, 整体大于某个值就行了,

90nm以下都是窗口密度,即每个窗口大小都必须满足,

如果是tsmc的工艺,个人感觉加dummy对timing、SI 影响很小的,
都是很小的方块, 不放心可以抽取RC来看看,

我们这边基本上不考虑dummy的timing影响,
发表于 2011-8-1 22:16:41 | 显示全部楼层
一般而言,Vendor是说IP的上方不要加signal的routing,但是做powermesh应该是没有问题的,除非你的是RF的IP。
发表于 2011-8-2 12:31:15 | 显示全部楼层
加些dummy没关系的额, 你啥工艺的
发表于 2011-8-2 14:50:51 | 显示全部楼层
IP的话,最好不要对其内部再任何操作
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