分享一篇好文章;45nm逻辑电路及互连光刻的纳米级数字电路设计

chibijia · 发表于 2010-5-15 19:58:13

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A 45nm Logic Technology with High-k+Metal Gate Transistors, Strained Silicon, 9 Cu Interconnect Layers, 193nm Dry Patterning, and 100% Pb-free Packaging
这是一篇目前较新的高性能数字设计的一篇好文章。对于高级数字设计者来说，互连光刻技术还是需要了解下的！
这篇文章是intel 公司人员撰写的。应该具有很高的参考价值。希望有兴趣的可以看看！

zhaoxin621 · 发表于 2011-7-12 22:27:20

真不错很好！

baoer1_1 · 发表于 2012-1-1 00:54:45

xiexie

baoer1_1 · 发表于 2012-1-1 00:55:20

很好！谢谢

baoer1_1 · 发表于 2012-1-1 00:57:15

很好！谢谢了

zhangxing007 · 发表于 2012-1-2 14:41:21

谢谢楼主分享！

reochan00 · 发表于 2015-7-13 08:34:48

下载来看看

xiaofuss111 · 发表于 2018-11-12 09:32:17

谢谢分享有用

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