求助LVS stamping conflict问题

fattigerXu

我遇到一个lvmv_pwell的软连接ERC（看工艺了，一般是用到DNW的）一开始找了半天有没有接线错误的，后面才反思过来，pwell是通过算法得出来的，需要作为算法参数的有DNW,NM以及p+AA，还有MVMK（有用到MVMK的工艺可以参考）DNW电位为MV时，其内部可以有MVNW,MVPW以及LVPW，PW区域不能覆盖MVMK层，即可识别为LVPW,MVMK覆盖其他PW/NW就可以识别为MV的，所以如果有报lvmv_pw可以考虑调整MVMK的覆盖情况，具体调整多少看工艺了