先进工艺低电压设计运放，如何设置管子的直流工作点？

April1999

用28nm工艺进行运放设计时，发现管子的直流工作点特别难以确定，特别是输入管，很难工作在饱和区，以及输入共模电压的确定。如果取电源电压一半450mV，那么在沟道长度选择较小时根本无法达到饱和区。而且沟道长度最多也只能设计成1um.

April1999

   

大话天神 发表于 2022-6-6 08:42
输入对管的共模电平设置太低了，对管进入了亚阈值区。小电流定义大电流，下面的电流镜当然也有问题了。降低 ...

我想请教一下偏置电流的问题，因为我想在放大级用较大的电流（想做宽带的），所以如果偏置电流较小的话，那么放大级的晶体管multiplier数会特别大，所以我偏置电流取得比较大。还有关于输入共模电压的问题，比如28nm，电源电压为0.9V，那么输入电压是不能超过0.9V的，在0.9V之下该如何选择一个合适的输入共模呢？根据教科书上的说法，是算三个管子的Vdast，但是在设计管子的时候如何让管子有一个固定的Vgs-Vth呢？设计参数一直在调整，弄得步骤特别乱，想请教一下设计运放的时候一般都是按照什么步骤来设计。

April1999

   

mars0904 发表于 2022-6-6 11:28
用lvt的管子是不是会好一点

我就是用的lvt管子，但是仿真给出的vth还是很大。