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[讨论] WPE&STI对版图的影响

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发表于 2023-6-28 18:33:45 | 显示全部楼层 |阅读模式

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1.wpe和sti对版图的影响是以什么方式体现出来呢?寄生吗?

2.2.对wpe和sti,用什么方法促使前端仿真出wpe和sti呢?而不是后端一直try版图,符合前端的仿真?




 楼主| 发表于 2023-6-30 13:55:19 | 显示全部楼层


   
andyfan 发表于 2023-6-28 21:41
如果是T家的PDK,可以调用管子的时候,调整相关的参数,看对器件的影响;也就是在版图开始之前,可以预估大 ...


这个需要design相当有经验
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 楼主| 发表于 2023-6-30 13:56:40 | 显示全部楼层
本帖最后由 大江南北 于 2023-6-30 13:59 编辑


   
krr 发表于 2023-6-29 15:14
前辈,我现在抽取PEX时,选择的noRC,后仿真的结果与前仿真相差较大,应该是LOD、WPE这些效应导致的,那 ...


通常看看关键器件,关键路径FP的位置对不对,这是一方面,另一方面看看wpe加的是否满足foundry的要求,比如T家的wpe是2um,还有就是sti,能合并的SD尽量合并及加dummy,避免sti ,关键器件的位置尽量靠模块中间位置放置
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 楼主| 发表于 2023-6-30 16:44:42 | 显示全部楼层


   
andyfan 发表于 2023-6-30 16:18
你贴的图不是有各种效应的影响么,把对应的on点开就好了啊。


另外LOD主要是STRESS的影响,同样的拉大面积,对N、P的趋势是相反的(我指的是VT和IDSAT的变化趋势)


请问能说的详细点吗?
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 楼主| 发表于 2023-7-3 18:32:10 | 显示全部楼层


   
andyfan 发表于 2023-6-30 20:54
简单说,就是STI是在硅表面挖的坑,然后填入隔离介质,哪填入的介质成分和硅构成必然不一样,原子结构 ...




应力减小,PMOS 和 NMOS的趋势相反

意思是应力减小,如果NMOS的VT及 IDSAT变大,那么PMOS的VT 及IDSAT变小?



对PMOS ,NMOS的前后仿真怎样对齐呢?

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