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楼主: 陈涛

[原创] 20nm工艺下后端设计的一些特点

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发表于 2012-5-11 17:24:36 | 显示全部楼层
还没接触过20nm的设计,学习了
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发表于 2012-5-11 21:53:37 | 显示全部楼层
It seems a huge explaination!!!
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发表于 2012-5-12 02:10:45 | 显示全部楼层
回复 1# 陈涛


It is a new world with several new keywords.

1. layout dependent effect
2. double pattern check
3. template pattern check
4. voltage dependent rule
and more

For sensitive analog design or matched signals, you also need color anchor.
They are expected to be assigned to the same mask.
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发表于 2012-7-11 10:56:09 | 显示全部楼层
什么是Direction Dependent Rule Check?
什么是Unidirectional Routing?
据说20纳米要有这些。但是不知详情。
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发表于 2012-7-11 17:10:55 | 显示全部楼层
后端痛苦指数每18个月增加一倍
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发表于 2012-7-11 17:55:00 | 显示全部楼层
只接触过40nm的表示鸭梨很大!
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发表于 2012-7-11 20:54:42 | 显示全部楼层
M0是干啥用的?
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发表于 2012-7-11 23:24:00 | 显示全部楼层
目前是接触不到20nm,先看看,了解下
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发表于 2012-7-13 23:41:48 | 显示全部楼层
顶起,陈老大比我们还快一步
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发表于 2012-7-13 23:47:05 | 显示全部楼层
对于这么高速的设计,CRG的设计就变得极为敏感了,不知道老大对这方面有没有什么体会?
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