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[求助] MOS交叠电容 米勒电容

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发表于 2016-5-5 10:08:03 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在CMOS工艺库中,MOS管金属栅与沟道之间~交叠的沟长(就是LD)大概是个什么量级?(也就是说LD/L大概是多少),哪位高人帮我解答一下,在此先谢过。。。
 楼主| 发表于 2016-5-6 18:07:43 | 显示全部楼层
回复 1# 水墨舞者


   交叠长度与井深、掺杂浓度有关,一般情况下,交叠长度与有效沟长是呈正比例关系的,比例系数大概为0.8左右,当然,对于不同的工艺这个系数多少会有点变化。对于小功率MOS来说,它的井深一般都比较小,所以,比方说,对于一个工艺库最小尺寸为600nm的管子,如果设计沟长为1um,那么交叠的长度与有效沟道长度大概是10^(-2)左右的数量级。
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