为什么有的工艺中有用到non-well这一层，该层具体又什么用？

fzu_physics · 发表于 2015-8-31 21:14:38

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规则文件上只列了drc rule，没有描述该层的定义，实在有点不懂

icfbicfb · 发表于 2015-9-1 17:10:50

标示层吧，没太多实际用途

jian1712 · 发表于 2015-9-1 17:46:13

回复 1# fzu_physics

规则文件贴出来，看看

fzu_physics · 发表于 2015-9-8 19:48:44

回复 3# jian1712

QQ图片20150908195351.png

fzu_physics · 发表于 2015-9-8 19:50:06

回复 3# jian1712

这一层是不是意味着在这个区域内既不做N阱，也不做P阱？

fzu_physics · 发表于 2015-9-8 19:51:17

回复 3# jian1712

只是起到将DNW周围的NW与PW隔离的作用？

xxmule · 发表于 2015-9-9 11:12:50

你猜的可能对，哪家的工艺啊？

回复 6# fzu_physics

fzu_physics · 发表于 2015-9-10 20:08:14

回复 7# xxmule

maxchip，台湾的一家晶圆厂

trumen · 发表于 2015-9-11 17:36:21

以前用过一次这个工艺，no-well表示无 nwell和pwell，pwell最后要使用到这层来生成，tooling里面有讲

xxmule · 发表于 2015-9-14 14:26:26

学习了，看来只有用过的才知道怎么回事！

以前用过一次这个工艺，no-well表示无 nwell和pwell，pwell最后要使用到这层来生成，tooling里面有讲
trumen 发表于 2015-9-11 17:36

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