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本帖最后由 ningyuan198 于 2015-5-28 18:36 编辑
才做数字后端不久,有一些跟DC和ICC有关的问题,还请各位解惑。
1. 在论坛中看到,ICC做MCMM需要设置WC,WCL,BC,LT和ML这些scenario,但是提供的工艺里面只有PVT组成的部分corner,比如ss,低压,-40℃之类的。我的理解是,WCL:ss,低压,-40;BC:ff,高压,125;WC、LT和ML就不知道该如何对应了,不知这种理解是否正确。
2. ICC中设置target和link的library,其中有ffg,高压,125和ff,高压,125。这两个库的operating condition内的参数(process,temperature,voltage,tree_type)都是一样的,但是库里的某些参数,如pin_cap、max_transition是不同的。在ICC执行过程中经常会报warning,说是ambiguous cell,man了下那错,提供的解决方法是在target和link library中把相同pvt的库删掉一个。但是,那两个库毕竟有其他的不一样的地方,不知具体该如何处理。
3. ICC做MCMM时,UG中指出在做CTS时应该只用一个scenario,那么怎么确定该用哪一个scenario呢?
4. DC是否在setup最恶劣的case做,先满足setup,hold放到ICC中去修?DC中set_time_derate是否需要? |
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