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楼主: steve_guo_1997

[求助] 低功耗bandgap求教(<1uA)

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发表于 2012-10-23 15:21:29 | 显示全部楼层
回复 4# TianBian365

用倒宽长比的管子做,效果怎么样?
发表于 2012-10-23 15:34:54 | 显示全部楼层
回复 7# amodaman

看到你说流片过功耗1uA以下的BANDGAP,是管子设在倒宽长下的类型吗?还是亚阈值的基准?
发表于 2012-10-24 15:28:47 | 显示全部楼层
請問 current mirror 低到 0.1ua c會如何?
bandgap  如果用 OPA + 2 bjt diode 串電阻方式, 至少要幾串  
op_Amp   3  + 2 diode 串電阻方式 => 1ua 表示 ,
opa 電流 < 0.5ua
2 個 diode current < 0.5ua , 但是一般 bjt multi 可能是 1:8 .
bipolar diode current =0.25ua ,
0.25u/8 => 會多小

我們碰過 低電流下MOS CURRENT MIRROR 會讓CHIP
動作不良,  量產後會有   ~8% yield loss .

這些都是 simulation 看不到也不是 main die 看到,
會發現某一批 wafer 出問題 , 但是 因為 WAT 完全看不出問題.
 楼主| 发表于 2012-10-24 20:15:54 | 显示全部楼层
回复 13# andy2000a
这是我觉得比较有价值的提问。不幸的是,我的目标也是要做量产,可惜之前毫无这等经验。
所以不得不提前考虑这些在量产中可能碰到的这样那样的问题。
所以在前面的提问中,希望知道是在何种工艺下的问题,其实是想引出是否经过量产验证的回答。
可惜的是,没有看到我想要的答案。
 楼主| 发表于 2012-10-24 20:16:56 | 显示全部楼层
回复 10# vdslafe

电路上不会比VDSL AFE麻烦的
发表于 2012-10-24 21:49:39 | 显示全部楼层
实现精准的高电阻也是难点!
比如
发表于 2012-10-24 21:50:52 | 显示全部楼层
实现几M乃至几十M级别的Res也是困难的,面积上也不容许!
发表于 2012-10-24 21:52:17 | 显示全部楼层
有量产,但是精度不是很高!
发表于 2012-10-25 15:40:31 | 显示全部楼层
学习,学习。
发表于 2012-10-26 13:47:12 | 显示全部楼层
回复 14# steve_guo_1997

    回复 4# TianBian365

1. 有没有具体流片测试过,仿真结果和测试结果是否相近,在哪种工艺节点下实现?

A:流片过,仿真测试几乎一致。0.6um的bcd工艺。

2. 靠近高温区域是否会有问题? leakage有无影响?

A: 没有问题,(leakage<10nA),希望你对leakage有自己的表述,别张嘴就来,却抓不住要点。
leakage确实会随温度变化,但和W/L 以及VDS很相关,请看器件物理详解。

3. OS偏差如何?是否符合foundry mismatch参数?

A: OS跟匹配尺寸和环路增益相关,我就不多说了。。。

PS. 自己提出的问题,搞得自己跟专业一样。。。希望你去掉你的浮躁。。。不可能我把设计直接贴给你,只能提供你设计的思路。。
鄙人流片一次成功率较高,也没有你这般气场。。。
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