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发表于 2012-9-13 18:58:41
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回复 2# tayo134
谢谢指点!
1. 该OTA希望用在宽带DSM中,受到大负载电容和大SR的限制,IB11, IB21都有几毫安的数量级,如果单纯从降低功耗的角度考虑,IB01, IB02, IB03, BI04越小越好,但是,有文献指出: IB21:IB04, IB11:IB02等不能超过5,但是没有给出理由。不知道大哥可否帮忙解释此困惑?在该条件下,这些比例取多少较好?
2. 追加去耦电容的目的:为节省功耗,假如IB01, IB02, IB03, BI04较小,偏置电路VB1 VB2 VB3 VB4等节点对地阻抗高,易受各种噪声干扰。CMFB模块的时钟馈通会引入干扰,同时通过MOS管寄生电容,信号节点的电压波动也会耦合到VB1 VB2 VB3 VB4等节点上,追加去耦电容可以降低这些节点的对地阻抗,可以旁路各种噪声和干扰信号。不知道这样子理解是否妥当?如果去耦电容过大,不知有何不利影响?
请大哥不吝赐教,谢谢!
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a. 根据经验,IB11:IB02, IB21:IB04 这些镜像比例取多少比较妥当?
这个比例得看你的系统要求,没有经验值,IB11:IB21通常为2:1,也可以为其它值。
b. IB01 IB02不相等可以吗? IB03 IB04同问。
可以
c. 启动MOS Ms1 Ms2的尺寸如何选取?
ms1和ms2一般取较小的W/L,仿真能让此电路正常启动并正常工作就可以了,没有固定尺寸,因为正常工作后这两个管子都会截止。
d. 根据经验,充当去耦电容的MOS尺寸如何选取?(附加说明:工艺库限制,沟长区间[0.18um, 20um],宽度区间[0.22um, 900um])
选择若干个(w=20um)*(l=20um)的MOS并联可以吗?
除VCMO需要看系统需求外,其它net上的电容一般没有具体的要求,也不是必须的,但是一般不建议取太大的值,特别是L。在.18um工艺下我以前一般都取L<5um,W<10um。 |
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