在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 14448|回复: 15

急求silvaco TCAD关于二极管的例子

[复制链接]
发表于 2010-3-29 09:46:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
小弟拜求
silvaco TCAD关于二极管的例子,要是有SOI更好!
大哥,大姐帮帮忙啊!
 楼主| 发表于 2010-3-29 10:16:10 | 显示全部楼层
自己先顶一个。
发表于 2010-7-8 16:55:16 | 显示全部楼层
我也想要,找不到哦,哎。
发表于 2010-7-8 18:54:27 | 显示全部楼层
examples loader
发表于 2010-7-10 11:36:27 | 显示全部楼层
很好的资源,谢谢!
发表于 2010-7-15 21:20:01 | 显示全部楼层
我也要,谢谢。
发表于 2010-7-16 13:01:59 | 显示全部楼层
哪位发个SOI参考一下,感谢
发表于 2010-7-23 14:52:06 | 显示全部楼层
thx for sharing
发表于 2011-10-24 15:03:32 | 显示全部楼层
本帖最后由 amor 于 2011-10-24 15:09 编辑

设计一个宽度为2um 深度为2um的二极管
go athena
line x loc=0.00 spac=0.2
line x loc=1 spac=0.1
line x loc=1.1 spac=0.02
line x loc=2 spac=0.25
line y loc=0.00 spac=0.02
line y loc=0.2 spac=0.1
line y loc=0.4 spac=0.02
line y loc=2 spac=0.5
init silicon c.phos=5.0e18 orientation=100
deposit oxide thick=0.50 divisions=5
etch oxide left pl.x=1
implant boron does=1.0e15 energy=50 pearson tilt=7 rotation=0 amorph
method fermi compress
diffus time=30 temp=1000 nitro press=1.00
extract name="xj" xj material="silicon" mat.occno=1 x.val=0 junc.occno=1
entract name="rho" sheet.res material="silicon"mat.occno=1 x.val=0 region.occno=1
etch oxide all
deposit alum thickness=0.2 div=3
etch alum right pl.x=1.0
electrode name=anode x=0.0
electrode name=cathde backside
structure outf=diodeex01_0.str
tonyplot diodeex01_0.str
quit
发表于 2013-2-23 09:07:51 | 显示全部楼层
回复 9# amor


    请问语句中的那个peason 还有amorph是什么意思呀
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-23 17:11 , Processed in 0.023914 second(s), 11 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表